นายนฤตม์ เทอดสถีรศักดิ์ เลขาธิการคณะกรรมการส่งเสริมการลงทุน (บีโอไอ) เปิดเผยว่า บีโอไอลงพื้นที่ จ.ลำพูน เพื่อติดตามความคืบหน้าโครงการลงทุนผลิตชิป (Wafer Fabrication) แห่งแรกของประเทศไทย ของบริษัท เอฟทีวัน คอร์เปอเรชั่น จำกัด (FT1) ซึ่งเป็นการร่วมทุนระหว่างบริษัท ฮานา ไมโครอิเล็คโทรนิคส จำกัด (มหาชน) ผู้ผลิตผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์รายใหญ่ และกลุ่ม ปตท. หลังจากที่บีโอไอได้อนุมัติให้การส่งเสริมเมื่อเดือนก.พ. 2567 จากนั้นบริษัทได้ดำเนินการออกบัตรส่งเสริมเมื่อเดือนส.ค.ที่ผ่านมา บีโอไอได้ทำงานร่วมกับบริษัทอย่างใกล้ชิด เพื่อสนับสนุนการดำเนินการในขั้นตอนต่างๆ
“ปัจจุบันอยู่ระหว่างการออกแบบโรงงาน และเตรียมเริ่มก่อสร้างโรงงานในพื้นที่สวนอุตสาหกรรมเครือสหพัฒน์ จ.ลำพูน ภายในเดือนธ.ค.ของปีนี้ คาดว่าจะใช้เวลาก่อสร้างและติดตั้งเครื่องจักรประมาณ 2 ปี ก่อนจะเริ่มผลิตชิปต้นน้ำแห่งแรกในประเทศไทย เงินลงทุนเฟสแรกกว่า 11,500 ล้านบาท ในช่วงไตรมาสแรกของปี 2570”
บริษัท เอฟทีวัน คอร์เปอเรชั่น จำกัดรับการถ่ายทอดเทคโนโลยีจากผู้ผลิตชิปชั้นนำของเกาหลีใต้ เพื่อผลิตชิป (Wafer) ชนิดซิลิคอนคาร์ไบด์ (SiC) ขนาด 6 นิ้ว และ 8 นิ้ว โดยมีคุณสมบัติสำคัญที่แตกต่างจากชิปทั่วไปที่ผลิตจากซิลิคอน คือ สามารถทนกระแสไฟฟ้าและความร้อนสูงได้ จึงเหมาะสมสำหรับการใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่ควบคุมการแปลงพลังงานไฟฟ้า (Power Electronics) เช่น เครื่อง Server ใน Data Center อุปกรณ์อัดประจุไฟฟ้าสำหรับยานยนต์ไฟฟ้า Inverter ในยานยนต์ไฟฟ้าและอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ รวมถึงอุปกรณ์แปลงพลังงานไฟฟ้าที่ใช้ในระบบกักเก็บพลังงาน ซึ่งกลุ่มอุตสาหกรรมเหล่านี้มีแนวโน้มเติบโตสูงในอนาคต
ขณะที่ ประเทศไทยมีความได้เปรียบด้านทำเลที่ตั้งมีความเป็นกลางเพื่อลดความเสี่ยงทางภูมิรัฐศาสตร์ มีต้นทุนที่แข่งขันได้ และมีขีดความสามารถในการขยายกำลังการผลิตในอนาคต อีกทั้งไทยยังมีโครงสร้างพื้นฐานที่มีคุณภาพสูง ไฟฟ้ามีความเสถียร มีศักยภาพด้านพลังงานสะอาด บุคลากรมีคุณภาพสูง มาตรการสนับสนุนที่ดีจากภาครัฐ อุตสาหกรรมรถยนต์ (อีวี) ระบบกักเก็บพลังงาน และฐานข้อมูลที่กำลังเติบโตสูง ซึ่งโรงงานของฮานาในไทยมีการประกอบกิจการที่ต่อเนื่องจากการผลิตชิปอยู่แล้ว โดยเฉพาะขั้นตอนการประกอบและทดสอบวงจรรวม (IC Assembly and Testing)
